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 2021年超纯水系统基本工艺作业流程图

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2021年超纯水系统基本工艺作业流程图

图3常见一级RO+二级EDI+MB电子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率18~18.2MΩ·cm超纯水系统图4常见一级R

2021年超纯水系统基本工艺作业流程图1

O+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm超纯水系统图5常见一级RO+二级EDI电子+MB电

2021年超纯水系统基本工艺作业流程图2

子I级超纯水系统工艺配置图适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率18~18.2MΩ·cm超纯水系统图6常见一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺

2021年超纯水系统基本工艺作业流程图3

配置图适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm超纯水系统图7是常见一级EDI全系统组成图。图7常见产水水质稳定二级RO+一级EDI

2021年超纯水系统基本工艺作业流程图4

+MB电子Ⅰ级超纯水系统组成图适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率<1000μs/cm,即TDS<500ppm时,要求产水电阻率18~18.2MΩ·cm纯水系统图8常见产水水质稳

2021年超纯水系统基本工艺作业流程图5

定二级RO+一级EDI电子Ⅱ级超纯水系统组成图适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率<1000μs/cm,即TDS<500ppm时,要求产水电阻率15~18.0MΩ·cm纯水系统

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